Oway - After-Sun - Hair Mask 500ml
Inhaltsstoffe:
Aqua (Water), Cetearyl Alcohol, Myristyl Alcohol, Cetrimonium Chloride, Behentrimonium Chloride, Dimethicone, Amodimethicone, Hydrolyzed Rice Protein, Bertholletia Excelsa Seed Oil, Oryza Sativa (Rice) Bran Oil, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil, Citrus Aurantium Bergamia (Bergamot) Fruit Oil, Citrus Limon (Lemon) Peel Oil, Foeniculum Vulgare (Fennel) Oil, Trideceth-12, Citric Acid, Benzyl Alcohol, Sodium Benzoate, Potassium Sorbate, Parfum (Fragrance), Limonene, Linalool, Citral, Geraniol.
Wir empfehlen, die Inhaltsstoffe direkt auf der Produktverpackung zu überprüfen.
Information:
Das Produkt wurde vor dem 13. Dezember 2024 vom Hersteller auf den Markt gebracht
und von uns auch schon vor dem 13. Dezember 2024 zum Verkauf angeboten.
Es besteht Konformität des Produkts nach Richtlinie 2001/95/EG.
